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Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

簡要描述:Eksma 激光脈沖電動可變衰減器
具有ø22 mm透明孔徑的電動可變衰減器,由薄膜偏振片,半波片和光機械組成,易于設置。波片的電動旋轉允許連續(xù)改變輸出光束的強度比。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-04-23
  • 訪  問  量:972

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詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 飛秒和ND:YAG激光脈沖電動可變衰減器990-0072M

Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

具有?22 mm透明孔徑的電動可變衰減器,由薄膜偏振片,半波片和光機械組成,易于設置。波片的電動旋轉允許連續(xù)改變輸出光束的強度比。

產品介紹

?將激光束分為兩束手動調節(jié)的強度比,以68°角分開

?大動態(tài)范圍

?透射光束偏移?1mm

?高光學損傷閾值

Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學接觸)中。半波片直徑25.4mm(用于飛秒應用)或零級空氣間隔半波片(用于高功率應用),其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比,而無需改變其他光束參數(shù)??梢栽诤軐挼膭討B(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

840-0056-12運動學安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調整為±4.5°,并獲得較大的消光對比度。支架位于桿,桿支架和可移動基座820-0090上。

距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內調節(jié)??梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ?,以將標準桿和桿架更改為更高的高度。


EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

產品型號

飛秒激光脈沖

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-343M

343 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343M+CP

343 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400M

400 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400M+CP

400 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515M

515 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515M+CP

515 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800M

800 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800M+CP

800 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800BM

780-820 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800BM+CP

780-820 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030M

1030 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030M+CP

1030 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030BM

1010-1050 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030BM+CP

1010-1050 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

大功率激光應用

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-266HM

266 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-266HM+CP

266 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-343HM

343 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343HM+CP

343 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400HM

400 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400HM+CP

400 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515HM

515 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515HM+CP

515 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HM

800 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HM+CP

800 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HBM

780-820 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HBM+CP

780-820 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HM

1030 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HM+CP

1030 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HBM

1010-1050 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HBM+CP

1010-1050 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply


旋轉分辨率:全步模式

在1/8步進模式下


0.6 arcmin
4.5 arcsec

較高轉速

50 deg/s

適用于Nd:YAG激光應用

孔徑

22 mm

損害閾值

>5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振對比

>1:200

飛秒應用

孔徑

22 mm

損害閾值

大功率激光應用:

> 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

> 100 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

時間色散

對于100 fs Ti:藍寶石激光脈沖,t<4 fs

偏振對比

>1:200

推薦設置

控制器

980-1045

電源

PS12-2.5-4

上述控制器和電源已包含在衰減器套件中,其代碼結尾為“ + CP"。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。


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