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Eksma 飛秒激光脈沖可變衰減器990-0072

簡(jiǎn)要描述:Eksma 飛秒激光脈沖可變衰減器990-0072
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時(shí)透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學(xué)接觸)中。半波片直徑25.4mm(用于飛秒應(yīng)用)或零級(jí)空氣間隔半波片(用于高功率應(yīng)用),位于旋轉(zhuǎn)偏振片支架840-0190中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-04-23
  • 訪  問  量:847

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詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 飛秒激光脈沖可變衰減器990-0072

Eksma 飛秒激光脈沖可變衰減器990-0072

可變衰減器/分束器由帶有偏振片支架的運(yùn)動(dòng)學(xué)支架制成,配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束手動(dòng)調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比,以68°角分開

?大動(dòng)態(tài)范圍

?透射光束偏移?1mm

?高光學(xué)損傷閾值

該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時(shí)透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學(xué)接觸)中。半波片直徑25.4mm(用于飛秒應(yīng)用)或零級(jí)空氣間隔半波片(用于高功率應(yīng)用),位于旋轉(zhuǎn)偏振片支架840-0190中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉(zhuǎn)波片來連續(xù)改變那兩個(gè)分離且不同的偏振光束的強(qiáng)度比,而無需改變其他光束參數(shù)??梢栽诤軐挼膭?dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。

840-0056-12運(yùn)動(dòng)學(xué)安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調(diào)整為±4.5°,并獲得較大的消光對(duì)比度。支架位于桿,桿支架和可移動(dòng)基座820-0090上。

距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。可以提供其他高度作為定制,以將標(biāo)準(zhǔn)桿和桿架更改為更高的高度。

產(chǎn)品型號(hào)

飛秒激光脈沖

型號(hào)

波長

激光損傷閾值

990-0072-266

266 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-343

343 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-400

400 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-515

515 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-800

800 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-800B

780-820 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-1030

1030 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-1030B

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

大功率激光應(yīng)用

型號(hào)

波長

激光損傷閾值

990-072-266H

266 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-343H

343 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-400H

400 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-515H

515 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-800H

800 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-800HB

780-820 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-1030H

1030 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0072-1030HB

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm


孔徑

22 mm

損害閾值

大功率激光應(yīng)用:

> 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

> 100 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型

時(shí)間色散

對(duì)于100 fs Ti:藍(lán)寶石激光脈沖,t<4 fs

偏振對(duì)比

>1:200


EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。


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